ＭＥＭＳ対応 三次元形状観察測定顕微鏡
ＭＥＭＳ関連部品の立体形状観察及び測定が可能になりました。超高深度撮影、画像合成などが出来ます。

ＭＥＭＳ対応 精密電解メッキシステム
ＭＥＭＳ関連部品作成にはメッキ工程が欠かせません。 スルーホール導通、回路形成、リフトオフ犠牲層、バンプ形成等多用されます。 6ｲﾝﾁウエハー対応のメッキシステムを導入しました。

ディスペンサー
必要な部分に必要な液体を塗布するディスペンサーを導入しました。
３軸同時制御ロボット、パソコンとの組み合わせにより多岐に渡る用途が考えられます。
導電ペーストによる電子回路の直描、必要部分に必要量の接着剤の塗布、高アスペクトレジストの部分コーティング、電子回路保護ポリイミドパターン直描、クリーム半田塗布等々が可能になりました。
　

電着レジストシステム
フォトレジストを電解メッキして露光現像するシステムです。
ＭＥＭＳ開発においては必然的に複雑な三次元形状のフォトリソグラフィーが要求されます。電着レジストは電解メッキ方式を利用するため導電性基板であれば立体形状全面に均一にレジストコートすることが出来ます。特に液状レジストでは困難であった基板コーナーのカバーリングに適しています。
露光方法の開発により４面，５面の同時フォトリソグラフィーも可能となりました。